株式会社ケンシュー 代表取締役、工学博士

倉地 育夫 氏

【経歴】
1977年3月 名古屋大学 工学部 合成化学科 卒業
1979年3月 名古屋大学 大学院 工学研究科 応用化学専攻 博士課程前期修了
1979年4月 ブリヂストンタイヤ株式会社入社 (現:株式会社ブリヂストン)
1983年4月 科学技術庁 無機材質研究所 留学 (1984年10月まで)
1984年11月 株式会社ブリヂストン 研究開発本部 復職
1991年9月 株式会社ブリヂストン 退社
1991年10月 コニカ株式会社 第四開発センター 入社 (主任研究員)
1993年4月 国立 福井大学 工学部 客員教授
1993年11月 コニカ株式会社 感材技術研究所 主幹研究員
1998年6月 コニカ株式会社 MG開発センター 主幹研究員
2001年8月 コニカ株式会社 中央研究所 所長付 主幹研究員
2005年8月 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 生産本部 生産技術センターデバイス技術部 第3デバイスグループリーダー
2008年10月 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 生産技術センターデバイス技術部 担当部長
2009年4月 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 開発本部 化製品開発センター 機能部材開発部 担当部長
2011年3月 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 定年退社 (57歳)
2011年3月 株式会社ケンシュー 代表取締役

【学協会】
以下の役職を歴任。
高分子学会 代議員
高分子同友会 開発部会 世話人
日本化学会 代議員
日本化学会 産学交流委員会シンポジウム分科会 主査
日本化学会 産学交流委員会シンポジウム分科会 委員長
日本化学会 春季年会講演賞 審査委員長
中国ナノテク研究都市ナノポリス 顧問

【受賞】
2000年5月 第32回 日本化学工業協会 技術特別賞 受賞
2004年5月 日本写真学会 ゼラチン賞 受賞
(その他 (株)ブリヂストンの超高純度βSiC半導体技術が日本化学会化学技術賞受賞)