セミナー

【ライブ配信セミナー】
基礎から学べるので、しっかり品質向上・改善を直結できる!
トラブル対策が学べるので、再発防止のレベルが上がる!

スパッタリングの基礎とトラブル対策

開催主旨

 薄膜形成では欠かせない技術である「スパッタリング」は、光学フィルターや半導体電子デバイスなどの幅広い産業展開がなされてきました。現在では、スパッタリングは成熟した成膜技術と見られており、装置産業の一環となって導入と利用が盛んです。しかしながら、多くは、ブラックボックス化した自動化成膜装置を導入するだけで、装置上の工夫や新技術の適用などが実効的に困難であり、今後の競争力を高めるのに不十分となります。スパッタリングの原理や現象を科学的な視点で理解し、基礎データに基づいた合理的な考えを持って、スパッタリング技術を捉えていくことが重要になります。
 そこで、当セミナーでは、スパッタリング法の基礎からトラブル対策までを網羅的に学ぶ機会を設けます。特に、成膜条件パラメータと膜特性の相関関係、薄膜の目的とそれに応じた評価、他のPVD法との比較によるベンチマーク検討、装置構成上の工夫などを紹介します。また、スパッタリング熟練者の技能をデジタル化する手法に関しても紹介し、トラブル対策への考え方の蓄積手法、数理モデルによる薄膜工程のIT化など、工程管理に活用できる新しい管理手法の事例についても示します。

■受講対象者
・スパッタリングに関わる若手・初学者や、問題・トラブルを抱えている方
・熟練者の技能やトラブル対処策などの情報を蓄積する手法を学びたい方

■必要な予備知識
特に必要ありません。基礎から解説します。


■学べる事
・スパッタリング技術の基礎
・スパッタリング膜の分析、評価法
・不良、トラブルの発生要因とその対処法
・品質改善、向上への管理手法

概要

日時 2021年 7月 16日(金)10:00~17:00 
(9:30 ログイン開始)※昼休憩1時間あり
会場 WEBセミナー
WEBセミナーは、WEBミーティングツール「Zoom」を使用して開催いたします。

※当日の録音・録画は固くおことわり申し上げます。
ブラウザとインターネット接続環境があれば、どこからでも参加可能です。
受講料

44,000円(資料含む、消費税込)
*複数人数お申し込みの場合2人目から39,600円
※後日、別の方が追加で申込をされる際は、備考欄に先に申し込まれた方のお名前と複数割適用希望と記載ください。
(記載が無い場合は通常料金のご請求となります。予めご了承ください)

受講にあたり
開催決定後、受講票並び請求書をご郵送いたします。
申込者が最少催行人数に達していない講座の場合、開催を見送りとさせて頂くことがございます。(担当者より一週間前を目途にご連絡致します。)
受講料
振込手数料は貴社でご負担願います。
キャンセルについて
開催日1週間前までの受付とさせて頂きます。1週間前までにご連絡がない場合はご欠席の方もキャンセル料として受講料全額を頂きます。

主催 日刊工業新聞社

※弊社プライバシーポリシー(個人情報保護方針)をご一読いただき、申込みフォームより必要事項をご入力ください。
⇒ プライバシーポリシー
申込締切日について 講座開催の3営業日前17:00〆切
※セミナーによって締切が異なる場合もございます。早めにお申込みください。
原則、資料を受講者の方へ郵送するため、お手元に届く猶予を頂いております。予めご了承ください。

【営業日】について
営業日は平日になります。 ※土曜/日曜/祝祭日は、休業日です。

(例)6/16(火)開催の場合、6/11(木)が締切日となります。
問合せ先 日刊工業新聞社 
総合事業局 セミナー事業部
TEL: 03-5644-7222 
FAX: 03-5644-7215
E-mail : j-seminar@media.nikkan.co.jp
TEL受付時間:平日(土・日・祝日除く) 9:30-17:30

講師

廣瀬 伸吾氏

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プログラム

1.スパッタリングの基礎知識と技能者像
1.1 スパッタリングの基礎
 1.1.1 スパッタリング法、PVD法とは
 1.1.2 スパッタリング現象
 1.1.3 放電とプラズマ、イールド
 1.1.4 装置構成とインプロセス計測
 1.1.5 PVD・CVDデータベースとは
1.2 PVDを取り巻く現状と薄膜に関する技能者像
2.薄膜製品の検査
2.1 スパッタリング膜の評価法
 2.1.1 膜構造特性測定・組成分析
 2.1.2 膜厚測定
 2.1.3 密着性・付着性試験
 2.1.4 電気・半導体特性試験
 2.1.5 光学特性試験と光学設計
 2.1.6 その他、機械特性、磁気特性測定
3.スパッタリングの不良、その要因と対策
3.1 薄膜の不良とは
 3.1.1 不良とは?
 3.1.2 スパッタリング目的の明確化と仕様
3.2 不良の発生要因とトラブル対策事例
 3.2.1 膜質と成膜条件パラメータの点から
 3.2.2 装置上の工夫
 3.2.3 比較的新しい方法による改善
4.熟練者の技能分析に基づく数理モデルの展開と現場への適用事例
4.1 品質改善と向上、条件最適化への数理モデルの適用
 4.1.1 QC分析の薄膜工程への適用
 4.1.2 一対比較法のトラブル対策への適用
 4.1.3 重回帰分析の薄膜条件最適化への適用
 4.1.4 機械学習による薄膜欠陥の判定への適用
 4.1.5 ウェーブレット解析による時系列薄膜工程管理への適用
 【ライブ配信セミナーに伴う注意事項について】⇒ 【詳細はこちら】
 ※必ずお読みください
(お申込みを頂いた時点でご同意頂いたとみなします)

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